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其它產(chǎn)品及廠家

真空電弧爐
本設(shè)備可以在不破壞真空或是保護(hù)氣氛的情況下進(jìn)行樣品的反轉(zhuǎn)熔煉，可以同時(shí)制備多個(gè)樣品（7個(gè)以下），用于新型合金材料的制備、提純及混合應(yīng)用，也可以用于熔煉高熔點(diǎn)金屬/合金，電弧法制備大塊非晶材料。本設(shè)備采用雙層水冷結(jié)構(gòu)，配備水冷循環(huán)機(jī)（加去離子水）使設(shè)備可以快速冷卻，適用于高校、科研院所及企業(yè)進(jìn)行真空冶金新材料的科研與小批量制備。
更新時(shí)間:2025-05-16
脈沖激光沉積鍍膜機(jī)
系統(tǒng)由真空腔室（外延室、進(jìn)樣室）、樣品傳遞機(jī)構(gòu)、樣品架、旋轉(zhuǎn)靶臺(tái)、真空排氣、真空測(cè)量、電器控制、配氣、計(jì)算機(jī)控制等各部分組成。1、★★外延室：極限真空優(yōu)于：5.0x10-8pa真空漏率小于2.0x10-8pa.l/s
更新時(shí)間:2025-05-16
磁控濺射鍍膜機(jī)
該設(shè)備是一款小型磁控濺射鍍膜儀，主要特點(diǎn)是設(shè)備體積小，結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單緊湊易于操作，對(duì)實(shí)驗(yàn)室供電要求低；該系列設(shè)備主要部件采用進(jìn)口或者國(guó)內(nèi)最優(yōu)的配置，從而提高設(shè)備的穩(wěn)定性；另外自主開發(fā)的智能操作系統(tǒng)在設(shè)備的運(yùn)行重復(fù)性及安全性方面得到更好地保障。該設(shè)備標(biāo)配2只φ2英寸永磁靶，一臺(tái)500w直流濺射電源（用于濺射金屬導(dǎo)電材料），1臺(tái)300w全自動(dòng)匹配射頻濺射電源（用于
更新時(shí)間:2025-05-16

最新產(chǎn)品

熱門儀器： 液相色譜儀 氣相色譜儀 原子熒光光譜儀 可見(jiàn)分光光度計(jì) 液質(zhì)聯(lián)用儀 壓力試驗(yàn)機(jī) 酸度計(jì)（PH計(jì)） 離心機(jī) 高速離心機(jī) 冷凍離心機(jī) 生物顯微鏡 金相顯微鏡 標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì) 生物試劑